Az utólagosfalszigetelési eljárások megértéséhez feltétlenül szükség van néhány
fizikai-kémiai alapfogalom tisztázására, mivel e nélkül sem a kapilláris
rendszerben lejátszódó jelenségek, sem pedig a szigetelési technológiák
működési elve nem érthető.
A falszigetelési
eljárások működésének elve a szilikátfelület-folyadék kölcsönhatásán alapszik.
A nedves talajjal érintkező falazatokban a víz és a híg sóoldat a kapilláris
rendszer hajszálcsöveiben a felületi feszültség hatására felemelkedik. A víz
felületi feszültségét a vízmolekulák közötti kohéziós vonzerők hozzák létre. Az
építőanyagokat (tégla, kő, beton, stb.) a velük érintkező víz benedvesíti.
Ennek mértéke függ a víz felületi feszültségétől és szilikátfelületen fellépő
adhéziós erőktől. Az adhéziós nedvesedés során a víz rátapad a szilárd
felületre, mivel az adhéziós vonzerő lényegesen nagyobb, mint a vízmolekulák
között ható, kohéziós erő.
A szilikát-felületekre
erősen tapadó vízmolekulák egyre újabb és újabb felületekhez kötődve vékony
folyadékrétegként felfelé mozognak a kapillárisban, a kohéziós erők
közvetítésével, magukkal húzva az egész folyadékoszlop vízmolekuláit. Ez a
kapilláris szívóhatás.
A falhoz tapadó
molekulavastagságú folyadékrétegben pozitív-ion koncentráció jön létre, ami a
nedves felületnek pozitív töltéstöbbletet ad. Az elektrofizikális eljárás
ezt a jelenséget hasznosítja a falak szárítására úgy, hogy a külső
potenciálkülönbség hatására a folyadék elmozdul, áramolni kezd a kapilláris
rendszerben. A jelenség magyarázata szerint a külső áramforrás hatására a
falfelülethez gyengén kötődő (adszorbeálódott) kationok elmozdulnak a (-)
katódpólus irányába, és a molekulák közötti kohéziós- és súrlódó erőknek
köszönhetően viszik magukkal a folyadékot is . Ez az elektrofizikális vízáramlás,
mely során a víz a negatív pólus irányába mozog.
Az elektrofizikális
szigetelési eljárás alkalmas a falszerkezetek sótalanírására is, azon elv
alapján, hogy a falnedvességben oldott nitrátos-, kloridionos- és szulfátos sók
ionjai, az egyenáramú elektromos előtérben, a negatív pólus felé vándorolnak.
A só koncentráció
csökkenése után a falnedvesség híg oldattá válik és a folyamat elektrofizikális
falszárításként folytatódik.
Ha az épületben
folyamatosan fenntartjuk, ezt az állapotot elérjük a falak teljes kiszáradását.
Nincsenek megjegyzések:
Megjegyzés küldése